半導體業擁抱EUV技術 資本支出直線攀升

台積電、英特爾和三星為打造體積更小、效能更強的處理器，紛紛導入極紫外光（EUV）技術，相關設備所費不貲， 3 家大廠資本支出直線攀升，艾司摩爾等設備廠則成為受益者。

華爾街日報報導，晶圓代工大廠以最新製程挑戰物理極限，需要 EUV 微影技術當幫手。與常用光源相比，採用 EUV 的系統能讓晶片電路更加微縮，但先進晶圓廠建造成本也跟著水漲船高，台積電兩年前宣布的新廠建造費用達 200 億美元。

關鍵在於 EUV 光刻器具價格高昂。艾司摩爾（ASML）公布，第 3 季光售出 7 套 EUV 系統就進帳 7.43 億歐元，等於每套系統要價超過 1 億歐元（約新台幣 33.68 億元）。這還不含半導體製程控管與測試設備成本。

台積電深耕晶圓代工先進製程， 10 月表示強效版 7 奈米製程導入 EUV 技術，今年第 2 季開始量產，良率已相當接近 7 奈米製程； 6 奈米製程預計明年第 1 季試產，並於明年底前進入量產。

與此同時，晶圓代工龍頭廠商資本支出大增成為趨勢。

台積電 10 月宣布今年資本支出達 140 億至 150 億美元，高於原先設定目標近 40 %。英特爾（Intel）隨後宣布加碼 3 %，今年資本支出目標達 160 億美元，創公司成立以來新高，比兩年前高出 36 %。三星（Samsung）上週宣布，今年半導體事業資本支出約 200 億美元。

三星公布的金額略少於去年，但業界分析師預期，三星今年大幅減少投資記憶體生產，以便將更多資源投入次世代晶圓代工廠。

在 EUV 技術帶動下，半導體設備廠獲益良多。艾司摩爾第 3 季接獲 23 套 EUV 系統訂單，創單季訂單金額新高；半導體製程控管設備製造商科磊（KLA – Tencor）上週公布，會計年度第 1 季營收年增率達 29 %，並表示 EUV 投資是業績成長主要動能。

今年以來，艾司摩爾與科磊股價漲幅分別達 76 %、 94 %。報導指出，明年 EUV 需求預料更加旺盛，半導體設備廠前景一片光明。

（新聞資料來源 : 中央社）