遭美制裁 中芯：先進工藝研發有重大不利影響

被美國商務部列入制裁實體清單後，中國晶片製造商中芯國際今晚坦承，對 10nm （奈米）及以下先進工藝的研發及產能建設有「重大不利影響」。業內人士也指這等於幾乎卡死中芯研發先進製程。

中芯國際 20 日晚間公告稱，公司被列入實體清單（ Entity List ）後，供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應；對用於 10 奈米及以下技術節點（包括極紫外光技術）的產品或技術，美國商務部會採取「推定拒絕」（ Presumption of Denial ）的審批政策進行審核；同時中芯為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。

中芯國際並稱，經初步評估，該事項對公司短期內運營及財務狀況無重大不利影響，對 10 奈米及以下先進工藝的研發及產能建設有重大不利影響，公司將持續與美國政府相關部門進行溝通，並視情況採取一切可行措施，積極尋求解決方案，力爭將不利影響降到最低。

中芯是中國最大的晶片代工企業，也是目前唯一正在研發7奈米先進製造工藝的代工廠。

中媒財經雜誌 19 日引述多名晶片代工行業人士稱，此舉對中芯國際最大的影響是先進製程的推進，對於成熟工藝業務的影響不大。另外，由於中芯國際 14 奈米以下先進製程產品的占比很小，營收主要來自成熟製程，因此對營收影響有限。

根據中芯國際 2020 年第3季財報，該公司主要營收來自0. 15 ∕0. 18 奈米、 55 ∕ 65 奈米以及 40 ∕ 45 奈米製程； 14 ∕ 28 奈米製程僅占 14 .6%。

報導指出，中芯國際目前的製程推進到N+1（介於 10 奈米和7奈米之間），並已實現小批量產，預計 2022 年實現N+2量產，但由於 EUV 光刻機（極紫外光刻機）遲遲無法到位以及沒有共同推進的大設計廠商，難以推進。

雖然 EUV 光刻機的生產商為荷蘭艾司摩爾（ ASML ）公司，但光刻機中的零部件和技術大都來自美國。這些涉及到 10 納米以下的技術和設備，將被拒絕出口。

報導引述一名在晶片代工行業有將近 30 年經驗的研發人員說，除了光刻機之外，涉及到 10 奈米以下技術與製造的機台、物料、零組件、 EDA （電子設計自動化）等，也「幾乎卡死了」。

（新聞資料來源 : 中央社）